ការអភិវឌ្ឍន៍យ៉ាងឆាប់រហ័សក្នុងវិស័យព័ត៌មាន និងអុបតូអេឡិចត្រូនិចបានជំរុញឱ្យមានការធ្វើបច្ចុប្បន្នភាពជាបន្តបន្ទាប់នៃបច្ចេកវិទ្យាប៉ូលាមេកានិកគីមី (CMP) ។បន្ថែមពីលើឧបករណ៍ និងសម្ភារៈ ការទិញផ្ទៃដែលមានភាពជាក់លាក់ខ្ពស់គឺពឹងផ្អែកលើការរចនា និងផលិតកម្មឧស្សាហកម្មនៃភាគល្អិតសំណឹកដែលមានប្រសិទ្ធភាពខ្ពស់ ក៏ដូចជាការរៀបចំសារធាតុរំអិលដែលត្រូវគ្នាផងដែរ។ហើយជាមួយនឹងការកែលម្អជាបន្តបន្ទាប់នៃភាពត្រឹមត្រូវនៃដំណើរការលើផ្ទៃ និងតម្រូវការប្រសិទ្ធភាព តម្រូវការសម្រាប់សម្ភារៈប៉ូលាដែលមានប្រសិទ្ធភាពខ្ពស់ក៏កាន់តែកើនឡើងផងដែរ។Cerium dioxide ត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងការកែច្នៃភាពជាក់លាក់លើផ្ទៃនៃឧបករណ៍មីក្រូអេឡិចត្រូនិច និងសមាសធាតុអុបទិកភាពជាក់លាក់។
ម្សៅប៉ូលាប៉ូលា Cerium oxide (VK-Ce01) មានគុណសម្បត្តិនៃសមត្ថភាពកាត់ដ៏រឹងមាំ ប្រសិទ្ធភាពប៉ូលាខ្ពស់ ភាពត្រឹមត្រូវនៃការប៉ូលាខ្ពស់ គុណភាពប៉ូលាល្អ បរិស្ថានប្រតិបត្តិការស្អាត ការបំពុលទាប អាយុកាលប្រើប្រាស់បានយូរ។ល។ និងត្រូវបានប្រើប្រាស់យ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុង ការប៉ូលាភាពជាក់លាក់អុបទិក និង CMP ជាដើម។ វាលកាន់កាប់ទីតាំងដ៏សំខាន់បំផុត។
លក្ខណៈសម្បត្តិជាមូលដ្ឋាននៃអុកស៊ីដ cerium:
Ceria ត្រូវបានគេស្គាល់ផងដែរថាជា Cerium oxide គឺជាអុកស៊ីដនៃ cerium ។នៅពេលនេះ valence នៃ cerium គឺ +4 ហើយរូបមន្តគីមីគឺ CeO2 ។ផលិតផលសុទ្ធគឺជាម្សៅធ្ងន់ពណ៌ស ឬគ្រីស្តាល់គូប ហើយផលិតផលមិនបរិសុទ្ធមានពណ៌លឿងស្រាល ឬសូម្បីតែពណ៌ផ្កាឈូកទៅម្សៅពណ៌ត្នោតក្រហម (ព្រោះវាផ្ទុកបរិមាណដាននៃ lanthanum, praseodymium ។ល។)។នៅសីតុណ្ហភាពនិងសម្ពាធក្នុងបន្ទប់ ceria គឺជាអុកស៊ីដដែលមានស្ថេរភាពនៃ cerium ។Cerium ក៏អាចបង្កើតជា +3 valence Ce2O3 ដែលមិនស្ថិតស្ថេរ ហើយនឹងបង្កើត CeO2 ដែលមានស្ថេរភាពជាមួយ O2 ។Cerium oxide គឺរលាយបន្តិចក្នុងទឹក អាល់កាឡាំង និងអាស៊ីត។ដង់ស៊ីតេគឺ 7.132 ក្រាម / cm3 ចំណុចរលាយគឺ 2600 ℃និងចំណុចរំពុះគឺ 3500 ℃។
យន្តការប៉ូលានៃអុកស៊ីដ cerium
ភាពរឹងនៃភាគល្អិត CeO2 មិនខ្ពស់ទេ។ដូចដែលបានបង្ហាញក្នុងតារាងខាងក្រោម ភាពរឹងនៃអុកស៊ីដស៊ីលីកុនគឺទាបជាងអុកស៊ីដពេជ្រ និងអាលុយមីញ៉ូម ហើយទាបជាងអុកស៊ីដ zirconium និងស៊ីលីកុនអុកស៊ីដ ដែលស្មើនឹងអុកស៊ីដ ferric ។ដូច្នេះវាមិនអាចធ្វើទៅបានតាមបច្ចេកទេសក្នុងការកម្ទេចវត្ថុធាតុដែលមានមូលដ្ឋានលើស៊ីលីកុនអុកស៊ីដ ដូចជាកញ្ចក់ស៊ីលីត កញ្ចក់រ៉ែថ្មខៀវ ជាដើម ជាមួយនឹងសេរ៉ាដែលមានភាពរឹងទាបពីចំណុចមេកានិចតែប៉ុណ្ណោះ។ទោះជាយ៉ាងណាក៏ដោយ នាពេលបច្ចុប្បន្ននេះ សារធាតុ cerium oxide គឺជាម្សៅប៉ូលាដែលពេញនិយមសម្រាប់ប៉ូលាសម្ភារៈដែលមានមូលដ្ឋានលើស៊ីលីកុនអុកស៊ីដ ឬសូម្បីតែសារធាតុស៊ីលីកុននីត្រាត។វាអាចត្រូវបានគេមើលឃើញថាការប៉ូលាស៊ីអ៊ីតអុកស៊ីតក៏មានផលប៉ះពាល់ផ្សេងទៀតផងដែរក្រៅពីឥទ្ធិពលមេកានិក។ភាពរឹងរបស់ពេជ្រ ដែលជាសម្ភារៈកិន និងប៉ូលាដែលប្រើជាទូទៅ ជាធម្មតាមានកន្លែងទំនេរអុកស៊ីហ្សែននៅក្នុងបន្ទះឈើ CeO2 ដែលផ្លាស់ប្តូរលក្ខណៈរូបវន្ត និងគីមីរបស់វា និងមានផលប៉ះពាល់ជាក់លាក់លើលក្ខណៈសម្បត្តិប៉ូលា។ម្សៅប៉ូលាអុកស៊ីត cerium oxide ដែលប្រើជាទូទៅមានផ្ទុកនូវចំនួនជាក់លាក់នៃអុកស៊ីដដ៏កម្រផ្សេងទៀត។Praseodymium oxide (Pr6O11) ក៏មានរចនាសម្ព័ន្ធបន្ទះឈើដែលដាក់ចំកណ្តាលមុខផងដែរ ដែលស័ក្តិសមសម្រាប់ការប៉ូលា ខណៈអុកស៊ីដកម្ររបស់ lanthanide ផ្សេងទៀតមិនមានសមត្ថភាពដុសខាត់ឡើយ។ដោយគ្មានការផ្លាស់ប្តូររចនាសម្ព័ន្ធគ្រីស្តាល់នៃ CeO2 វាអាចបង្កើតជាដំណោះស្រាយរឹងជាមួយវានៅក្នុងជួរជាក់លាក់មួយ។សម្រាប់ម្សៅប៉ូលាប៉ូលាណាណូ-សេរីយ៉ូមអុកស៊ីត ភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ (VK-Ce01) ភាពបរិសុទ្ធនៃស៊ីរ៉ែមអុកស៊ីត (VK-Ce01) កាន់តែខ្ពស់ សមត្ថភាពប៉ូលាកាន់តែធំ និងអាយុកាលប្រើប្រាស់បានយូរ ជាពិសេសសម្រាប់កញ្ចក់រឹង និងកញ្ចក់អុបទិករ៉ែថ្មខៀវសម្រាប់ យូរ។នៅពេលប៉ូលាស៊ីលីក វាត្រូវបានគេណែនាំអោយប្រើម្សៅប៉ូលាដែលមានភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ (VK-Ce01)។
ការប្រើប្រាស់ម្សៅប៉ូលាស៊ីរីអុកសុីត៖
Cerium oxide polishing powder (VK-Ce01) ដែលប្រើជាចម្បងសម្រាប់ការខាត់ផលិតផលកញ្ចក់ វាត្រូវបានគេប្រើជាចម្បងក្នុងវិស័យដូចខាងក្រោមៈ
1. កញ្ចក់ កញ្ចក់ ប៉ូលាកញ្ចក់;
2. កញ្ចក់អុបទិក កញ្ចក់អុបទិក កញ្ចក់។ល។
3. កញ្ចក់អេក្រង់ទូរស័ព្ទ ផ្ទៃនាឡិកា (ទ្វារនាឡិកា) ជាដើម។
4. ម៉ូនីទ័រ LCD គ្រប់ប្រភេទនៃអេក្រង់ LCD;
5. Rhinestones, ពេជ្រក្តៅ (កាត, ពេជ្រនៅលើខោខូវប៊), គ្រាប់បាល់បំភ្លឺ (chandeliers ប្រណីតនៅក្នុងសាលធំ);
6. សិប្បកម្មគ្រីស្តាល់;
7. ការប៉ូលាដោយផ្នែកនៃត្បូងពេជ្រ
ដេរីវេនៃសារធាតុប៉ូលាអុកស៊ីត cerium oxide បច្ចុប្បន្ន៖
ផ្ទៃនៃ cerium oxide ត្រូវបាន doped ជាមួយ អាលុយមីញ៉ូម ដើម្បីធ្វើអោយប្រសើរឡើង យ៉ាងខ្លាំង នៃការ polishing កញ្ចក់ optical របស់ខ្លួន។
នាយកដ្ឋានស្រាវជ្រាវ និងអភិវឌ្ឍន៍បច្ចេកវិទ្យា UrbanMines Tech ។លីមីតធីត បានស្នើឡើងថា ការលាយបញ្ចូលគ្នា និងការកែប្រែផ្ទៃនៃភាគល្អិតប៉ូលា គឺជាវិធីសាស្ត្រ និងវិធីសាស្រ្តសំខាន់ៗ ដើម្បីបង្កើនប្រសិទ្ធភាព និងភាពត្រឹមត្រូវនៃការប៉ូលា CMP ។ដោយសារតែលក្ខណៈសម្បត្តិនៃភាគល្អិតអាចត្រូវបានកែតម្រូវដោយការផ្សំនៃធាតុពហុសមាសធាតុ ហើយស្ថេរភាពនៃការបែកខ្ញែក និងប្រសិទ្ធភាពនៃការដុសខាត់នៃសារធាតុរអិលអាចធ្វើឱ្យប្រសើរឡើងដោយការកែប្រែផ្ទៃ។ការរៀបចំ និងដំណើរការប៉ូលានៃម្សៅ CeO2 ដែលត្រូវបានលាបជាមួយ TiO2 អាចបង្កើនប្រសិទ្ធភាពប៉ូលាបានច្រើនជាង 50% ហើយក្នុងពេលជាមួយគ្នានេះ ភាពពិការលើផ្ទៃក៏ត្រូវបានកាត់បន្ថយ 80% ផងដែរ។ប្រសិទ្ធភាពប៉ូលាស៊ីសង្វាក់នៃ CeO2 ZrO2 និង SiO2 2CeO2 អុកស៊ីដសមាសធាតុ;ដូច្នេះ បច្ចេកវិជ្ជានៃការរៀបចំសារធាតុ doped ceria micro-nano composite oxides មានសារៈសំខាន់ណាស់សម្រាប់ការអភិវឌ្ឍន៍សម្ភារៈប៉ូលាថ្មី និងការពិភាក្សាអំពីយន្តការប៉ូលា។បន្ថែមពីលើបរិមាណសារធាតុ doping ស្ថានភាព និងការចែកចាយសារធាតុ dopant នៅក្នុងភាគល្អិតសំយោគក៏ជះឥទ្ធិពលយ៉ាងខ្លាំងទៅលើលក្ខណៈសម្បត្តិនៃផ្ទៃ និងដំណើរការប៉ូលាផងដែរ។
ក្នុងចំនោមពួកគេការសំយោគនៃភាគល្អិតប៉ូលាជាមួយនឹងរចនាសម្ព័ន្ធ cladding គឺមានភាពទាក់ទាញជាង។ដូច្នេះហើយ ការជ្រើសរើសវិធីសាស្រ្ត និងលក្ខខណ្ឌសំយោគក៏មានសារៈសំខាន់ផងដែរ ជាពិសេសវិធីសាស្ត្រទាំងនោះដែលមានលក្ខណៈសាមញ្ញ និងសន្សំសំចៃ។ដោយប្រើកាបូនអ៊ីដ្រាត សេរីយ៉ូម កាបូណាត ជាវត្ថុធាតុដើមចម្បង ភាគល្អិតប៉ូលាស្យូម អុកស៊ីដ អាលុយមីញ៉ូម ត្រូវបានសំយោគដោយវិធីសាស្ត្រមេកាណូគីមី ដំណាក់កាលរឹងសើម។នៅក្រោមសកម្មភាពនៃកម្លាំងមេកានិក ភាគល្អិតដ៏ធំនៃជាតិកាបូនអ៊ីដ្រាត សេរីយ៉ូម កាបូណាត អាចត្រូវបានបំបែកទៅជាភាគល្អិតល្អ ខណៈដែលអាលុយមីញ៉ូមនីត្រាតមានប្រតិកម្មជាមួយនឹងទឹកអាម៉ូញាក់ ដើម្បីបង្កើតជាភាគល្អិត amorphous colloidal ។ភាគល្អិត colloidal ត្រូវបានភ្ជាប់យ៉ាងងាយស្រួលទៅនឹងភាគល្អិតនៃ cerium carbonate ហើយបន្ទាប់ពីការស្ងួតនិង calcination សារធាតុអាលុយមីញ៉ូអាចសម្រេចបាននៅលើផ្ទៃនៃ cerium oxide ។វិធីសាស្រ្តនេះត្រូវបានគេប្រើដើម្បីសំយោគភាគល្អិតអុកស៊ីដ cerium ជាមួយនឹងបរិមាណផ្សេងគ្នានៃសារធាតុអាលុយមីញ៉ូម ហើយដំណើរការប៉ូលារបស់ពួកគេត្រូវបានកំណត់លក្ខណៈ។បន្ទាប់ពីបរិមាណអាលុយមីញ៉ូមសមស្របត្រូវបានបន្ថែមទៅលើផ្ទៃនៃភាគល្អិតអុកស៊ីដ cerium តម្លៃអវិជ្ជមាននៃសក្តានុពលលើផ្ទៃនឹងកើនឡើង ដែលវាធ្វើឱ្យមានគម្លាតរវាងភាគល្អិតសំណឹក។មានការច្រានចេញពីអេឡិចត្រូស្តាតខ្លាំងជាងមុន ដែលជំរុញឱ្យមានភាពប្រសើរឡើងនៃលំនឹងការព្យួរសំណឹក។ទន្ទឹមនឹងនេះ ការស្រូបយកទៅវិញទៅមករវាងភាគល្អិតសំណឹក និងស្រទាប់ទន់ដែលត្រូវបានចោទប្រកាន់ជាវិជ្ជមានតាមរយៈការទាក់ទាញរបស់ Coulomb ក៏នឹងត្រូវបានពង្រឹងផងដែរ ដែលជាអត្ថប្រយោជន៍ដល់ទំនាក់ទំនងទៅវិញទៅមករវាងស្រទាប់សំណឹក និងស្រទាប់ទន់លើផ្ទៃកញ្ចក់ប៉ូលា និងលើកកម្ពស់។ ការធ្វើឱ្យប្រសើរឡើងនៃអត្រា polishing ។